Reference number
ISO 21466:2019
International Standard
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Edition 1
2019-12
Preview
ISO 21466:2019
70944
No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2019)

ISO 21466:2019

ISO 21466:2019
70944
Idioma
Formato
CHF 173
Convertir Franco suizo (CHF) a tu moneda

Resumen

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Informaciones generales

  •  : Publicado
     : 2019-12
    : Norma Internacional en proceso de revisión sistemática [90.20]
  •  : 1
     : 47
  • ISO/TC 202/SC 4
    37.020 
  • RSS actualizaciones

Ciclo de vida

¿Tiene alguna duda?

Consulte nuestras Ayuda y asistencia